пройти на старый сайт ООО "СОРЭНЖ" можно здесь: soreng.ru  

УСТАНОВКА ЭКСПОНИРОВАНИЯ

Установка экспонирования «УЭС-003» предназначена для переноса изображения фотошаблона на
подложку (без совмещения изображений шаблона и подложки) экспонированием фоторезистивного слоя подложки при проведения фотолитографических процессов изготовления ИС.

ОСНОВНЫЕ ХАРАКТЕРИСТИКИ УСТАНОВКИ:

Габариты (Ш*Г*В)
Вес
400x550x650 мм
не более 30 кг.
Питание 180 … 220В, 50 … 60Гц
Режим работы осветителя   По выбору:
С воздушным охлаждением: 0…19,9 сек. с шагом 0.1сек.
С водяным охлаждением: 0…999,9 сек. с шагом 0.1сек.
С водяным охлаждением по замкнутому циклу: 0…999,9 сек. с шагом 0.1сек.
Рабочее поле засветки По выбору:
С оптическим конденсором. Диаметр поля 60 мм.
С оптическим конденсором. Диаметр поля 76 мм.
С оптическим конденсором. Диаметр поля 100 мм.
С оптическим конденсором. Диаметр поля 150 мм.
Без оптическим конденсора.
Рабочий стол По выбору:
Без рабочего столика.
С рабочим столиком под подложки произвольной фомы.
С рабочим столиком диаметром 60мм.
С рабочим столиком диаметром 76мм.
С рабочим столиком диаметром 100мм.
С рабочим столиком диаметром 150мм.
Шаблонодержатель По выбору:
Без шаблонодержателя.
Установлены приспособления для шаблонодержателя 76мм.
Установлены приспособления для шаблонодержателя 102мм.
Установлены приспособления для шаблонодержателя 127мм.
Установлены приспособления для шаблонодержателя 152мм.
Установлены приспособления для шаблонодержателя по чертежам заказчика.
Механизм контактирования подложки с шаблоном По выбору:
Без механизма контактирования.
С механизмом контактирования.
Длина волны источника УФ излученияПо выбору:
365нм.
400нм.
435нм

Скачать краткое описание в формате .pdf Вы можете по ссылке:

Добавить комментарий

Ваш e-mail не будет опубликован. Обязательные поля помечены *