пройти на старый сайт ООО "СОРЭНЖ" можно здесь: soreng.ru  

УСТАНОВКА ЗАСВЕТКИ РЕЗИСТА

Установка засветки «УЗР-002» предназначена для засветки фоторезистивного слоя подложки при проведения фотолитографических процессов изготовления ИС.

ОСНОВНЫЕ ХАРАКТЕРИСТИКИ УСТАНОВКИ:

Габариты (Ш*Г*В)
Вес
400x550x650 мм
не более 30 кг.
Питание 220В, 50Гц
Режим работы осветителя   По выбору:
С воздушным охлаждением: 0…19,9 сек. с шагом 0.1сек.
С водяным охлаждением: 0…999,9 сек. с шагом 0.1сек.
С водяным охлаждением по замкнутому циклу: 0…999,9 сек. с шагом 0.1сек.
Рабочее поле засветки По выбору:
Диаметр поля 60 мм.
Диаметр поля 76 мм.
Диаметр поля 100 мм.
Диаметр поля 150 мм.
Рабочий стол По выбору:
Без рабочего столика.
С рабочим столиком под подложки произвольной фомы.
С рабочим столиком диаметром 60мм.
С рабочим столиком диаметром 76мм.
С рабочим столиком диаметром 100мм.
С рабочим столиком диаметром 150мм.
Длина волны источника УФ излучения По выбору:
365нм.
400нм.
435нм

Скачать краткое описание в формате .pdf Вы можете по ссылке: